微電子工業濺射靶材及離子蒸發鍍膜 Co>99.9998% 1片單價  ≥14克

國內研究所生產的高純鈷 Co>99.9998%，保真，保含量，有成分單，開發票。檢測三十多項雜質，含量指標ppb

含量保證，國內少數幾家能生產如此高純度的工廠生產的專用蒸發鍍膜材料。

產品優點 
1，不純物元素含量極低
2，強度大，密度小，硬度大，熔點高，抗腐蝕性很強；
     高純度鈦具有良好的可塑性

執行標準    GB/T 26018-2010
   

本標準規定了高純鈷的要求、檢驗方法、檢驗規則、包裝、標志、運輸、貯存、質量證明書和合同(或訂貨單)等內容。
     本標準適用于磁傳感材料，光感材料，磁記錄濺射靶材及離子鍍膜、蒸發鍍膜、制造高純試劑、標樣和高純合金等用途的高純鈷。

 有檢測報告，請聯系賣家索取。